我国的芯片布局相较于国外并不晚，20世纪60年代就开始布局光刻机，并在1965年研制出第一款接触式国产光刻机。此时涉足这一制造工艺的国家只有美国和中国。到了1985年，中国第一台分布投影式光刻机研制成功。此时与国际水平只相差7年。 很多人总结我国半导体领域失败原因：一是因为改革开放之初，百废待兴，需要将有限的资金...
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